高溫實驗用真空熔煉噴鑄甩帶一體爐真空甩鑄爐）設(shè)備特點 設(shè)備用途：

該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護條件下的感應熔煉及快冷甩帶成型；適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。

A· 實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料

B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣，可用于制備大塊非晶材料 結(jié)構(gòu)組成 本設(shè)備主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。

一、高溫實驗用真空熔煉噴鑄甩帶一體爐結(jié)構(gòu)及功能簡介

采用臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進出料方便，爐體結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間較小，采用高頻電源加熱，主要供大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉澆鑄處理，也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。還可進行非晶甩帶，噴鑄和壓鑄處理，一臺設(shè)備，多種功能。

二、技術(shù)參數(shù)

1、每次甩帶、噴鑄合金：50g~100g

2、每次熔煉澆鑄合金：50~1000g

3、高真空室真空度：≤10×10E-3Pa

4、加熱電源功率：25Kw；頻率范圍：30~80KHz

5、可通入氮氣、氬氣等惰性氣體

7、銅輥直徑：220mm，寬度：40mm

8、銅輥線速度：5~70m/S

9、水流量：3~100L/min