一、1kg真空磁懸浮熔煉爐設(shè)備簡介
真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬，在冶金和新材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、設(shè)備原理
真空磁懸浮熔煉方法，是通過高頻或中頻交變磁場，在金屬熔煉中形成與重力相抵消的電磁力，使熔體懸浮，與坩堝內(nèi)壁脫離方法是一項(xiàng)集電磁學(xué)、流體學(xué)、熱力學(xué)、力學(xué)、物理化學(xué)及冶金等多學(xué)科于一體的綜合冶金技術(shù)。因此受到了人們廣泛的觀注，在許多材料制備領(lǐng)域得到應(yīng)用。由于磁懸浮的作用，使熔體與坩堝內(nèi)壁脫離接觸，這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導(dǎo)散熱改為輻射散熱，從而導(dǎo)致散熱速度聚減，使熔體可達(dá)到很高的溫度（1700～2500℃），宜于熔煉高熔點(diǎn)金屬或其合金。更重要的方面是：熔煉時(shí)爐料的懸浮將有效防止?fàn)t料與坩堝壁接觸所帶來的污染。宜于獲得高純度或極活潑的金屬。
1kg真空磁懸浮熔煉爐主要技術(shù)參數(shù)
額定功率：≤200Kw
容量（以鈦計(jì)）：水冷銅坩堝， 1000g
輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz
冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa
熔煉溫度≥2100℃（根據(jù)材料熔點(diǎn)不同熔煉溫度不同）
水冷銅坩堝≤￠100 熔煉溫度低于2100度的金屬合金（根據(jù)熔煉材料定）
可充保護(hù)氣≤0.03Mpa
控制方式：操作模擬屏+PLC,配置手動(dòng)操作按鈕
操作模式：主要閥門氣動(dòng)、電動(dòng)
